纳米WO3光催化材料的研究现状
摘 要：与传统的有机污染处理方法相比，光催化技术降解速度更快，降解程度更大，因而半导体光催化技术作为一种污染治理的新技术越来越受到人们的重视。本文综述了纳米三氧化钨光催化材料的研究现状，提出了提高纳米三氧化钨光催化性能的方法以及未来发展方向。
关键词：wo3 光催化剂 纳米材料 研究进展
中图分类号：tb3 文献标识码：a 文章编号：1674-098x（2013）04（c）-0017-02
随着日益严重的环境问题和新能源的需求，光催化技术因其在环境污染净化、能源再生方面的应用和前景十分广泛儿备受关注。光催化技术由于具有可在室温下直接利用太阳光将各类有机污染物完全矿化，无二次污染等独特性能而成为一种理想的环境污染治理技术成为近年来国内外最活跃的研究领域之一[1]。近年来，随着半导体光催化材料的快速发展，wo3作为光催化材料引人注目。与常用的光催化剂tio2、zno等相比，wo3具有较小的禁带宽度和较大的光吸收范围，能更有效地利用占太阳辐射能量近一半的可见光，其体积效应、表面效应、量子尺寸效应和宏观量子隧道效应显著[2]。虽然wo3制备工艺简单，带隙能小（约为2.5ev），能吸收波长小于500 nm的可见光，具有潜在的光催化能力[3]，但是纯wo3由于存在易光腐蚀，对可见光利用率低等缺陷而很难获得稳定的光催化性能，因此，如何提高光催化降解性能的研究具有重要意义，