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钨钴硬质合金电化学蚀刻加工研究

01/05

SURFACE TECHNOLOGY Oct. 2002Vol.31

NO.5

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32

钨钴硬质合金电化学蚀刻加工研究

吉华,王伟,田间

(四川大学化工机械系,四川成都

610065)

[摘要]对YG6硬质合金电化学蚀刻工艺进行了研究,提出了采用光致抗蚀剂作保护膜,在生成一定钝化膜的情况下进行电化学蚀刻的方法。在一定的蚀刻深度范围内,该工艺的可控性好、腐蚀区表面质量较好。

[关键词]电化学蚀刻;光致抗蚀剂;钨钴硬质合金[中图分类号]TG178

[文献标识码]A

[文章编号](2002)1001-366005-0032-02

Study on the Optical Electrochemical Maching of WC Alloy

JI Hua ,WANG Wei ,TIAN Jian

(Department of ChemicaI Processing Machinery ,Sichuan University ,Chengdu 610065,China )

[Abstract ]In this articIe opticaI eIectrochemicaI maching of WC aIIoy is studied ,the technigues of eIectrochemicaI maching with some passivation fiIm are presented using photoresist as protecting fiIm. With a certain range of deepness ,controI performance of the technics and roughness of etched surface is satisfactory.

[Keywords ]EIectrochemicaI machining ;Photoresist ;WC aIIoy

0引言

重要的部分使用封口胶作为保护。常用的光致抗蚀剂一般使用碱溶液进行显影,抗碱性能差;实验中使用的溶液多为碱性溶液,采用溶剂显影型光致抗蚀剂。试验的装置如图2。腐蚀深度的测量采用

该仪器的分辨率为1CWB1200型高精度数字位移计,

0.01~0.05m 。典型腐蚀深度采用英国生产的Hobson !

表面轮廓仪,精度可达0. 01m 。用电镜观察腐蚀形貌

! 特征。

光化学蚀刻工艺是在工件表面涂覆一层耐腐蚀的感光膜,利用感光膜的光化学反应特点,使需腐蚀部分的工件表面裸露出来,然后用化学蚀刻液进行腐蚀,从而达到加工的目的。该工艺广泛用于印制电路板加工、仪表面板加工、特殊零件加工。亦有采用电化学蚀

[1,2]

刻的方法对碳钢、不锈钢进行蚀刻加工。

1试验方法

如图1所示:掩膜为一透明薄膜,用ARX 程序在

用激光光绘机在掩膜上AutoCAD 下画出需要的图形,

绘制出需要的图形,在特殊光源下,从保护区透过光线,使涂覆(或粘贴)在工件表面的感光膜发生光化学反应,经处理使腐蚀区的金属本体暴露出来,进行电化学蚀刻加工。

为了满足加工几何形状的需要和达到一定的加工精度,在试验中选用了光致抗蚀剂作保护膜,在其他非

[收稿日期]2002-04-17

[作者简介]吉华(1972-),四川武胜人,讲师,硕士,主要从事材料的腐蚀与防护研究。

图1加工示意图

图2试验装置示意图

表面技术第31卷第5期2002年10月33

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当100g/LNaNO3+50g/LNaOH复合水溶液试验中,

2电化学蚀刻实验

实验中蚀刻对象YG6硬质合金是以碳化钨粉为硬质相,金属钴为粘接相,经粉末冶金方法而成。其主

[3]要化学成分为94%WC,导电、导热好。6%CO,

电流密度较低时,腐蚀区呈黑色,无金属光泽;当电流密度较高时,腐蚀区大多呈银灰色,表面质量不稳定,多为明显的波澜状。两种电解液中均含有能有效溶解钴、钨氧化物的组分,能有效地去钝化,试验中硬质合金的溶解速度都较快,但表面质量较差,腐蚀深度不易控制,不适合电解蚀刻。

2.212g/LNaNO 3+3g/LC 2H 4O 7Na 复合水溶液

在大量的试验的基础上,提出以NaNO 和电化学蚀刻YG6硬质合金的关键在于寻求合理

的电解液。有效的电解液应该在满足蚀刻深度要求的同时,腐蚀区应具有一定的平整度和光洁度,加工深度在一定范围内的可控性好。

电化学蚀刻钨钴硬质合金,阳极难溶性产物覆盖硬质合金表面,妨碍硬质合金的继续溶解,甚至是不溶解。E. M. 鲁米扬夫和A. ! . 达维多夫用合金溶解速度与阳极电位关系曲线(如图3),讨论过电解加工中WC-CO 类硬质合金的阳极行为[4]

。他们认为:由于CO 是非常容易钝化,它虽然含量不大,但可使合金出现完全钝化。在这种情况下,

电解加工需选择

图3合金阳极溶解在复合溶液中的特性

组元B 容易电化学溶解的那种电解液,或复合电解液,例如用来加工WC-CO 硬质合金的一定比例的NaNO 3和NaOH 复合水溶液,在这样的电解液中合金极化曲线将有(AB )的形式。电解加工与电化学蚀刻工作条件不尽相同,如电解加工一般电解液有一定的压力、阳极与阴极之间的距离非常小,但是本质都是以电化学为基础,所以借鉴E ・M. 鲁米扬夫和A ・!

・达维多夫的理论,蚀刻液中同时含有能溶解WC 和CO 的氧化膜的电解质。

一般认为[5]

硝酸盐、亚硝酸盐对钴的溶解作用较

好,碳酸盐、磷酸盐、酒石酸盐溶解钨酸盐较好。2.1

复合水溶液试验

60g/LNaNO3+50g/LNa2CO 3复合水溶液试验中电流缓慢上升后下降较少,基本趋于一稳定值。当电流! 750A/dm2时,腐蚀区仍粗糙不平,无氧化膜生成。该配方下随电流、时间变化,腐蚀深度无一定的规律性。

3C 2H 4O 7Na 为主要成分的电解液配方,NaNO 3利于钴的溶解,C 2H 4O -7是利于WC 溶解的良好络合剂。电解液配方降低了电解质的含量,一方面由于所加工部件腐蚀深度在10~100"

m ,以免腐蚀深度过大:另一方面以提高腐蚀深度在10~100" m 范围内的可调节性。2.2.1试验现象和讨论

在实验中观察到开始有电流减小现象,后保持稳定;腐蚀区表面生成连续均匀半透明薄膜,用碱液擦洗可去除;腐蚀区平整,呈银白色,有金属光泽;槽区边缘有坡度。

在表面生成一层均匀的钝化膜,降低了电流效率,但是同时获得了较好的表面质量(Ra0. 80~0. 40),认为其机理与电化学抛光有相似之处。当腐蚀区产生表

面凹凸不平时,凸起部位所生成钝化膜,比凹洼部位所生成的钝化膜的厚度要小一些,而且凸起部位离阴极较近,电场强度大,依据尖端放电的原理容易失去电子,使腐蚀区凸起部位优先溶解。最后得到表面平整的状态。

2.2.2pH 值的影响

电解蚀刻加工中电解液pH 值对腐蚀加工的表面质量有明显地影响,WC 在碱性溶液中易于溶解,而CO 在碱性溶液中易于生成CO (OH )2沉淀。

随着pH 的上升,钝化膜减少,pH 值控制在7~8,一方面可获得较好的表面质量,一方面是有利于光致抗蚀膜的保护。蚀刻后生成的钝化膜溶于碱,说明钝化膜主要是钨的氧化物WO 3・IH 2O 。

2.2.3电流密度、

时间、温度的影响如图5~图(7电流密度均为下降后稳定值),腐蚀深度在一定的范围内基本上与加工时间、电流密度成正比,随温度的上升而上升。说明该电解液在一定加工深度范围内的加工可控制性比较好,能够满足加工要求。

(下转第36页)

(电流密度)

SURFACE TECHNOLOGY Oct. 2002Vol.31NO.5

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36

按照以上工艺进行施镀,所得镀层分别在1mol/LHCl 、3.5%NaCl 、10%NaOH 溶液中浸泡241、721、1201,失重结果如表1所示。由此可知:该镀层在10%NaOH 溶液中有更好的耐腐蚀性,这是因为沉积物是在碱性溶液中制得的。

表1介质1.0mol/LHCl 3.5%NaCl 10%NaOH

失重与浸泡时间的关系

失重(・/mg cm -2)241.240.0114

349.120.0170

419.210. 1010.0212

(1)化学粗化时,可以采用含添加剂的强碱性高锰酸钾型工艺代替高铬酸型工艺。避开了六价铬可能造成的环境污染问题。

(2)该镀层主要为非晶态结构。镀层合金中铁、磷和硼的含量分别为35.8%、2.8%和6.1%。(3)该低温碱性化学镀Ni-fe-P-B 磁性合金的工艺稳定,使用寿命长,镀层光亮,无裂纹,镀层的耐蚀性良好。

1999.10:27.

[2]徐盘明,赵祥大

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[1]曾跃,姚素薇. 电镀磁性镀层[M ]天津大学出版社,

. 天津:

0. 05010. 0815

6结论

经过实验研究,可得出如下结论:

(上接第33页)

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由于控制温度、电流密度相对较难,所以温度、电流密度控制在表面质量最好的范围内,主要通过控制加工时间来控制加工深度。

3结论

采用溶剂显影型光致抗蚀剂作为保护膜,在生成一定钝化膜的情况下进行电化学蚀刻,可以用于腐蚀深度不太深、加工形状特殊的零件的精细加工。生成的钝化膜降低了电流效率,但同时也有利于提高腐蚀加工区的表面质量。

电流密度! =100A/dm2;极间距! =3mm ;室温pH =8;

图6腐蚀深度随时间变化曲线

时间" =10min ;极间距! =3mm ;室温pH =8,

图7腐蚀深度随电流密度变化曲线[

[J ][1]吴蒙华. 不锈钢凹形字的快速电解蚀刻. 新技术新工

图4

(50倍电镜扫描)YG6试件断面图

艺,,1):1997(36~37.

[2]吉华. 电化学抛光进行腐蚀加工的光刻工艺的研究[J ].

新技术新工艺,,1):2001(14~15.

[3]陈献廷. 硬质合金使用手册[M ]冶金工业出版. 1. 北京:

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北京:国防工业出版社,1989.

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电流密度! =14A/dm2;极间距! =3mm ;

时间" =10min pH =8;

[6]查全性. 电极过程动力学导论[M ]科学出版社,. 北京:

1987.

[7]李云飞. 电化学抛光工艺[M ]山西人民出版社,. 1. 山西:

1978.

图5腐蚀深度随电解液温度变化曲线

钨钴硬质合金电化学蚀刻加工研究

作者:作者单位:刊名:英文刊名:年,卷(期):被引用次数:

吉华, 王伟, 田间

四川大学化工机械系,四川,成都,610065表面技术

SURFACE TECHNOLOGY2002,31(5)1次

参考文献(7条)

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2. 吉华 电化学抛光进行腐蚀加工的光刻工艺的研究[期刊论文]-新技术新工艺 2001(01)3. 陈献廷 硬质合金使用手册 1986

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6. 查全性 电极过程动力学导论 19877. 李云飞 电化学抛光工艺 1978

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1. 吉华. 邹正文. 罗光华 基于PC的活塞压缩机实验测控系统设计[期刊论文]-压缩机技术2004(2)

2. 祝宝军. 曲选辉. 秦明礼. 肖平安. ZHU Baojun. Qu Xuanhui. Qin Mingli. Xiao Pingan 硬质合金注射成形过程中的难点问题及解决方法[期刊论文]-粉末冶金材料科学与工程2001,6(3)

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引证文献(1条)

1. 魏静 印刷线路板精细蚀刻的研究[学位论文]硕士 2005

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