微电子器件(3-1) - 范文中心

微电子器件(3-1)

08/02

微电子器件分析的典型过程

平衡态

DC响应

AC响应

瞬态响应

1. 分区、近似求解 泊松方程得到平 衡态的参数 2. 平衡态载流子电 流密度等于零出 发推导出内建电 场的大小

1. 在边界条件下求 解中性区少子连 续性方程(扩散 方程)得到少子 浓度分布 2. 由电流密度方程 得到各电流密度 成分

求少子电荷 控制方程

P区

np0

N区

pn0

x

反偏二极管的反向电流有哪些可能的产生机制?

反偏二极管可以得到大电流输出吗? 怎样得到大电流输出?

P区

np0

N区

pn0

x

法1:使耗尽区产生电子-空穴对

P区

N区

np0

pn0

x

典型器件:光电二极管

光电二极管是将光信号转换为电信号的半 导体器件,器件核心是反向偏置的pn结

在没有光照时,由于pn结处于反向偏 置,只有微弱的反向电流流过

当有光照时,反向电流急剧增加(携带能 量的光子进入PN结后,把能量传给共价键 上的束缚电子,使部分电子挣脱共价键, 从而产生电子---空穴对,称为光生载流 子 )。为了增加光照,pn结面积较大。

法2:使靠近耗尽区边界的中性区有更多的少子

P区

N区

np0

pn0

x

时间维度上,可以采用从开态(正偏)瞬时变为关态(反偏)实现

E1 0 -E2

E t

I

E1 RL

− E2 RL

ts

tf t I0

空间维度上,可以将正偏与反偏pn结背靠背放在一起来实现 利用正偏pn结提供载流子

P

N N

P

两个近距离地背靠背PN结构成的一种新的器件——双极 结型晶体管(bipolar junction transistor, BJT)

• 双极含义是电子与空穴两种极性不同的载流子均参与了器件 的导通过程 • BJT是电压控制的电流源 • BJT与其它器件连接可实现放大电流、放大电压和放大功率 • Transistor 是 Transfer resistor的缩写 • http://www.pbs.org/transistor/

William Shockley

John Bardeen

Wakter Brattain

1947

1、BJT 类型与工艺

npn 和pnp 晶体管

I E =I B +I C

V EB +V BC +V CE =0

制备工艺与特性

均匀基区

BJT (扩散晶体管)

合金工艺

特点:

1. 三个区内杂质均匀分布2. 发射结、集电结为突变结3. 载流子在基区中以扩散运动为主

漂移晶体管)

平面工艺

特点:1.

基区为缓变杂质分布,发射区杂质分布也缓变。

2. 载流子在基区中以漂移为主

电路用法

3. 能带图与少子分布

平衡

pnp BJT

平衡pn 结

注:

假设晶体管的各个区域是均匀掺杂的,并且

N AE >>NDB >NAC

课堂练习

画出平衡条件下

npn

晶体管的能带图

P

PN 结能带图N

E Fn −E Fp =qV

均匀基区pnp 晶体管能带图放大状态:

E Fn −E Fp =qV

饱和状态:

截止状态:

倒向放大状态:

平衡态

NPN 晶体管在 4 种工作状态下的能带图: 放大状态:

饱和状态:

截止状态:

倒向放大状态:

课堂练习 写出小注入pn结非平衡态时的势垒区边界的少子分布

⎛ qV ⎞ p n ( x n ) = p no exp⎜ ⎟, ⎝ kT ⎠ ⎛ qV ⎞ ( ) n p − x p = n po exp⎜ ⎟, ⎝ kT ⎠

⎡ ⎛ qV Δp n ( x n ) = p no ⎢exp ⎜ ⎝ kT ⎣

pn np

x →∞

= pno = n po

x →−∞

⎞ ⎤ ⎟ − 1⎥, ⎠ ⎦

Δp n

Δn p

x→∞

=0

=0

⎡ ⎛ qV ⎞ ⎤ Δn p (− x p ) = n po ⎢exp⎜ ⎟ − 1⎥, ⎣ ⎝ kT ⎠ ⎦

x→−∞

均匀基区pnp晶体管的各边界上少子浓度

⎛ qV ⎞ pB = pB0 exp ⎜ EB ⎟ ⎝ kT ⎠

E

Emitter P

⎛ qV ⎞ nE = nE0 exp ⎜ EB ⎟ ⎝ kT ⎠

Base N

Collector P

⎛ qV ⎞ nC = nC0 exp ⎜ CB ⎟ ⎝ kT ⎠

C

nE = nE0

nC = nC0

B

⎛ qV ⎞ pB = pB0 exp ⎜ CB ⎟ ⎝ kT ⎠

均匀基区pnp晶体管的少子分布图: 放大状态:

饱和状态:

截止状态:

倒向放大状态:

4、放大作用

处于放大模式偏置下的 pnpBJT中载流子的输运 BJT中载流子的输运过程: 1. 在正偏E-B结附近载流子的运动表现为多数载流子扩散过发射 结注入到另一边的准中性区(中性基区) 2. 由于基区宽度比少子扩散长度小得多,大多数的注入空穴通过 扩散穿越准中性基区并且进入C-B耗尽区,然后C-B耗尽区内的加 速电场(漂移)迅速把这些载流子扫进集电区。

课堂练习 画出PN结中的正向电流和反向电流的构成与载流子运动 情况

J=

Jdp + Jdn + Jr

P区

Jdp

N 区

Jdn

Jr

J= Jdp +Jdn +Jg

P区

J dp

N 区

−xp

0

xn

J dn

V

Jg

− xp

0

xn

V

放大模式偏置下pnpBJT中的扩散电流(忽略耗尽区内的R-G电流)

I pE

I pC

I pr

Inc

I nE

I n

I nr

NE>>NB,减少InE

I E = I pE + I nE

I c = I nc + I pc ≈ I pc = I pE − I pr = I E − I nE − I nr

I B = I n E + I nr − I nc ≈ I nE + I nr

WB

电流放大系数的定义

共基极

定义1:发射结正偏,集电结零偏时的 IC 与 IE 之比,称为 共基极直流短路电流放大系数,记为α,即:

IC α= IE

VEB > 0 , VCB = 0

定义2:发射结正偏,集电结反偏时的 IC 与 IE 之比,称为 共基极静态电流放大系数,记为hFB,即:

hFB = IC IE

V EB > 0 ,VCB

共发射极 定义3:发射结正偏,集电结零偏时的 IC 与 IB 之比,称为 共发射极直流短路电流放大系数,记为β,即:

IC β= IB

VEB >0,VCB =0

定义4:发射结正偏,集电结反偏时的 IC 与 IB 之比,称为 共发射极静态电流放大系数,记为hFE,即:

IC IB

hFE =

VEB >0,VCB

IC 根据 I B = I E − IC ,及 α = 的关系,可得β与α之间有 IE 如下关系: IC IC I E α β= = = I B (I E − I C ) I E 1 − α

α=

β

1+ β

对于一般的晶体管,α= 0.950~0.995,β = 20~200 。


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